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　　美光(guāng)公司在(zài)华(huá)销售(shòu)的(de)产品未通过(guò)网络安全(quán)审(shěn)查

　　据(jù)网信办消息，日前，网(wǎng)络安(ān)全审查(chá)办公室依法对(duì)美光(guāng)公司在华销售产品(pǐn)进行(xíng)了网络(luò)安全审查。

　　审查发(fā)现，美光(guāng)公司产品存(cún)在较严重网络安(ān)全问题隐患(huàn)，对我国关键(jiàn)信息基础(chǔ)设施供应链造成重大(dà)安全风险，影响我国(guó)国家安全。为此，网络安全审查办公室依法作(zuò)出不予通过(guò)网络(luò)安(ān)全审查的结论。按照《网络安全法》等法(fǎ)律(lǜ)法规，我国(guó)内关键信息基(jī)础(chǔ)设(shè)施(shī)的运营者(zhě)应停止采购美光公司产(chǎn)品。

　　此次对美光公司(sī)产(chǎn)品(pǐn)进行网络安全审(shěn)查，目的是(shì)防范(fàn)产品网络安(ān)全问题(tí)危害国(guó)家(jiā)关键信息基础设施安(ān)全，是维护国家安(ān)全的(de)必要措(cuò)施。中国坚定推(tuī)进高水(shuǐ)平(píng)对外开放(fàng)，只要遵守中国法(fǎ)律法(fǎ)规要求，欢(huān)迎各(gè)国企(qǐ)业、各类平台产品服(fú)务进(jìn)入(rù)中国市场(chǎng)。

　　3月31日，中国网信网发文(wén)称，为保障关(guān)键信息(xī)基(jī)础设施供(gōng)应链安(ān)全(quán)，防范(fàn)产品(pǐn)问题隐患造成网络安全风险，维护国(guó)家安全，依据《中华人民(mín)共和国国家(jiā)安全法》《中华人民共和国网络安(ān)全法》，网(wǎng)络安全审查办公室按照(zhào)《网络安全审查办法》，对(duì)美光公(gōng)司(sī)（Micron）在华销售(shòu)的产品实(shí)施(shī)网络(luò)安(ān)全审查。

　　美光是美(měi)国的存储(chǔ)芯片行业龙头，也是全球存储芯片巨头之(zhī)一，2022年收入来(lái)自中国市(shì)场收入从此前高峰57％降(jiàng)至2022年约11％。根据市场咨(zī)询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年(nián)三星电子、 铠侠、西部(bù)数(shù)据(jù)、SK 海力士、美光(guāng)、Solidigm 在全(quán)球 NAND Flash （闪存）市场份额约为(wèi) 96.76％，三星(xīng)电子、 SK 海力士、美光在(zài)全球 DRAM （内存）市(shì)场(chǎng)份额(é)约(yuē)为 94.35％。

　　A股上市公司中，江波龙(lóng)、佰(bǎi)维存储等公司披露过(guò)美(měi)光等国际存(cún)储厂商为公司供(gōng)应商。

　　美(měi)光在江波龙采购(gòu)占比已经显著下降，至(zhì)少已经不是(shì)主要(yào)大供应商。

　　公告显示， 2021年美光位列江波(bō)龙第(dì)一(yī)大存储晶圆供(gōng)应商，采购约31亿元，占比33.52％；2022年(nián)，江波龙第(dì)一(yī)大、第(dì)二大和(hé)第(dì)三(sān)大供应商采购(gòu)金(jīn)额占比分别是26.28％、22.85％和(hé)5.76％。

　　目前江(jiāng)波龙已经(jīng)在存储产业链上下(xià)游建立(lì)国内外广泛(fàn)合作。2022年年报显(xiǎn)示，江波(bō)龙与三星、美光、西部(bù)数据等主要存储(chǔ)晶圆原厂(chǎng)签(qiān)署了长期合约，确保(bǎo)存储晶圆供应的稳定性，巩固公司在下(xià)游市(shì)场的供应优势，公(gōng)司(sī)也(yě)与国内国产存储(chǔ)晶(jīng)圆原厂武(wǔ)汉长(zhǎng)江存储、合肥长鑫保持(chí)良好的合作(zuò)。

　　有券商此前就分析，如果美光在中(zhōng)国(guó)区销(xiāo)售受到限(xiàn)制，或将导(dǎo)致(zhì)下(xià)游客(kè)户转而采购国(guó)外(wài)三星(xīng)、 SK海力士，国内长江存储、长鑫存储等竞对产品(pǐn)

　　分析称，长(zhǎng)存、长鑫的上游设备厂或从中受(shòu)益。存储器的生产已经演(yǎn)进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另(lìng)外NAND Flash现在(zài)已(yǐ)经进(jìn)入3D NAND时代(dài)，2 维(wéi)到3维的(de)结构转变(biàn)使刻蚀(shí)和薄膜成为最关键、最(zuì)大量的加工设备(bèi)。3D NAND每层均需要经过薄膜(mó)沉积工艺(yì)步骤，同(tóng)时刻(kè)蚀目前前沿要(yào)刻到 60：1的深孔(kǒng)，未来可能会(huì)更深的孔或者沟槽，催生(shēng)更多设备需求。据东(dōng)京电(diàn)子披露，薄膜(mó)沉(chén)积设备繁华落幕是什么意思解释，繁华落幕是什么意思？及(jí)刻蚀占3D NAND产线资本开(kāi)支合(hé)计(jì)为(wèi)75％。自长江(jiāng)存储被加(jiā)入美国限(xiàn)制名单，设备国产化进程加(jiā)速(sù)，看好拓荆科技（薄膜沉积）等相关公司份额(é)提升(shēng)，以及存(cún)储业务占比较(jiào)高的华海(hǎi)清科（CMP）、盛美上海（清洗）等收入增长。

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