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第一次染发对头发伤害大吗,三类人不适合染发

第一次染发对头发伤害大吗,三类人不适合染发 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看一(yī)则(zé)突发消息。

  美(měi)光公司(sī)在华销售的产品未通过网络安全审查(chá)

  据网信(xìn)办消息,日前,网络安全审(shěn)查办公室依法对美光公司在华销(xiāo)售(shòu)产品进行了(le)网络安全审查。

  审查(chá)发现,美(měi)光公司产品存(cún)在较严重(zhòng)网络安全问题(tí)隐(yǐn)患,对我(wǒ)国关键信(xìn)息基础设施供应链造成重大安(ān)全风(fēng)险,影响我国国家安全。为此,网络安全审查办公室依(yī)法作出不(bù)予通过网络安全审查的结论。按照《网络安全法》等法律法(fǎ)规(guī),我国内(nèi)关键信息基础(chǔ)设施(shī)的运营(yíng)者应(yīng)停止采购美光(guāng)公司产品。

  此(cǐ)次对美光公司(sī)产(chǎn)品进行(xíng)网络安全审查,目的是(shì)防范产品网络安全(quán)问题危害国家(jiā)关键信息基础设施安全,是(shì)维护国家安(ān)全的必(bì)要措(cuò)施。中国坚定推进高水平对外开(kāi)放,只(zhǐ)要遵守中国法律法规要(yào)求,欢迎(yíng)各国企业、各(gè)类平(píng)台(tái)产品(pǐn)服(fú)务(wù)进入(rù)中(zhōng)国市场。

  半导体突发!中国出手:停(tíng)止(zhǐ)采(cǎi)购!

  3月(yuè)31日,中国网(wǎng)信网(wǎng)发文称,为保障(zhàng)关键信息基础设施供(gōng)应链安全,防范(fàn)产品问题隐患造成网络安(ān)全风险,维护国家安全,依据《中华人(rén)民共和国国家(jiā)安全法(fǎ)》《中华(huá)人民共和国网络安全法》,网(wǎng)络安(ān)全(quán)审查(chá)办公室(shì)按(àn)照《网络安(ān)全审查办(bàn)法》,对美光公司(Micron)在华销售的产品实施网络安全审查(chá)。

  半导体突发!中国出手:停(tíng)止采购(gòu)!

  美(měi)光(guāng)是美国的(de)存储芯(xīn)片行业龙头,也是(shì)全球存储芯片巨头之一,2022年收入来自中国市场收入(rù)从此(cǐ)前(qián)高峰57%降至2022年约(yuē)11%。根据市(shì)场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统(tǒng)计,2021 年三星电子、 铠侠、西部数据、SK 海(hǎi)力士、美(měi)光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市场份额(é)约为 96.76%,三星电子、 SK 海(hǎi)力士、美(měi)光在(zài)全(quán)球 DRAM (内存)市场份额约为 94.35%。

  A股上市公司中,江波龙、佰维存(cún)储等公司披(pī)露过美光(guāng)等国(guó)际存储厂商为公司供(gōng)应商。

  美光在(zài)江波龙采购(gòu)占比已经(jīng)显著下降,至(zhì)少(shǎo)已经不是主要(yào)大供应商。

  公(gōng)告显(xiǎn)示, 2021年美(měi)光位(wèi)列江波龙第一大存储晶圆供应商,采购约31亿元(yuán),占比33.52%;2022年,江波龙第一大、第二大和第三大供(gōng)应(yīng)商采购金额占(zhàn)比分(fēn)别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波龙已经在存储产业链上下(xià)游建(jiàn)立(lì)国(guó)内外(wài)广泛合作。2022年(nián)年报显示,江波龙与(yǔ)三星、美光、西部数据等主(zhǔ)要存储晶圆原厂签署(shǔ)了(le)长期(qī)合约,确保存储晶圆供(gōng)应的稳定(dìng)性,巩(gǒng)固公司在下游(yóu)市场(chǎng)的(de)供(gōng)应(yīng)优(yōu)势,公司(sī)也与国内国产存储晶圆原第一次染发对头发伤害大吗,三类人不适合染发厂(chǎng)武汉长江(jiāng)存储、合(hé)肥长鑫保持良好的合作(zuò)。

  有(yǒu)券商此前就分析,如果美光(guāng)在中国区销售受到限制,或将导致下游客户转(zhuǎn)而采购国外三星、 SK海(hǎi)力(lì)士,国内长江(jiāng)存储、长鑫存储等竞(jìng)对产品(pǐn)

  分(fēn)析称,长(zhǎng)存(cún)、长鑫的上游设(shè)备厂(chǎng)或从中受益(yì)。存储(chǔ)器的生产已经(jīng)演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外NAND Flash现在已经进入3D NAND时(shí)代,2 维到(dào)3维(wéi)的结构转变使刻蚀和薄膜成为最关键、最大量的加工设备。3D NAND每层(céng)均需(xū)要经过薄膜(mó)沉(chén)积工艺(yì)步(bù)骤,同时刻蚀(shí)目前(qián)前沿要刻到(dào) 60:1的(de)深(shēn)孔,未来可能会更深(shēn)的(de)孔(kǒng)或者沟(gōu)槽,催生更(gèng)多设备(bèi)需求。据(jù)东京电子披露,薄膜沉积设备及刻(kè)蚀占3D NAND产线(xiàn)资本开支合计(第一次染发对头发伤害大吗,三类人不适合染发jì)为75%。自(zì)长江存储(chǔ)被加入美国(guó)限(xiàn)制名单,设备(bèi)国产化进程加速(sù),看(kàn)好拓(tuò)荆(jīng)科(kē)技(薄膜(mó)沉积)等相关公司份额提升,以(yǐ)及存(cún)储业务占比较高的(de)华海清科(CMP)、盛美(měi)上海(清(qīng)洗)等(děng)收入增长(zhǎng)。

 

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