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什么的柳条填合适的词,什么的柳条填空 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消(xiāo)息(xī),国家知识产权局局长申(shēn)长雨在新闻(wén)发布会上表示,将(jiāng)统筹推进各类知识产权法律法规和制度规则(zé)的(de)制修订工作。其中,修(xiū)改完(wán)善集成电(diàn)路布图(tú)设(shè)计(jì)保护条例,适应大(dà)规模集成电路发(fā)展需(xū)要(yào),助力(lì)芯片产业做大做强,服务数(shù)字经济更好发展。

  加强(qiáng)大(dà)数据、人工智(zhì)能(néng)、基因(yīn)技术等新(xīn)领域新业态知识产权规(guī)则研(yán)究,助力相关领域创新发展。同时,积什么的柳条填合适的词,什么的柳条填空极参与(yǔ)知识产(chǎn)权(quán)国际规(guī)则制(zhì)定,更好对接(jiē)高标(biāo)准(zhǔn)国际经贸规则(zé),助力高水平对(duì)外开放。

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