金(jīn)融界4月24日(rì)消(xiāo)息(xī)，国家知识产权局局(jú)长申(shēn)长(zhǎng)雨在新闻发布会(huì)上表示(shì)，将统筹推进各(gè)类知识产(chǎn)权法律法(fǎ)规(guī)和制度(dù)规(guī)则的制修订工作。其中，修改完善集成电路布图设计保护条例，适(shì)应大规模集(jí)成电路发(fā)展需要，助(zhù)力芯片产业做大做(zuò)强(qiáng)，服务(wù)数字(zì)经济更好发展。

　　加强大数据、人工智能、基(jī)因技术等新(x女生拉黑就是极度讨厌吗，拉黑多久不联系就是彻底结束īn)领域新业(yè)态知识产权规(guī)则研究，助力相关(guān)领域创新发展。同时(shí)，积极参(cān)与(yǔ)知识产权国(guó)际规则制定，更好对接高标准(zhǔn)国际经贸规则(zé)，助力高水平对(duì)外开放。

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