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马云的钱属于个人吗

马云的钱属于个人吗 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看一(yī)则突发消息。

  美光公司在华销售的产品(pǐn)未通过网络安(ān)全(quán)审查

  据(jù)网信办消息,日前(qián),网络安全审查办公室依法对(duì)美光公司在华销售产品进行了网络安全审查。

  审查发(fā)现,美光公司产品存在(zài)较严(yán)重网络安(ān)全问题隐患(huàn),对(duì)我国关键信息基础设施(shī)供应链造成重大安全(quán)风(fēng)险(xiǎn),影响我(wǒ)国国家(jiā)安全。为此,网络安全审查办公室依法(fǎ)作(zuò)出不予通(tōng)过网络(luò)安全审查(chá)的结论(lùn)。按照《网(wǎng)络安全法》等法律法规,我国内关键(jiàn)信(xìn)息(xī)基础(chǔ)设(shè)施的运营者(zhě)应停止采购(gòu)美光公司(sī)产(chǎn)品。

  此(cǐ)次对美光(guāng)公司(sī)产品(pǐn)进行(xíng)网络安全审查,目的(de)是防(fáng)范产品网络安(ān)全问题危害国(guó)家关键信息(xī)基(jī马云的钱属于个人吗)础设施安全,是维护国家安全的必要措施(shī)。中国坚定(dìng)推进(jìn)高水(shuǐ)平对外(wài)开(kāi)放,只(zhǐ)要遵守中国法律法规要(yào)求(qiú),欢迎(yíng)各国企业、各(gè)类(lèi)平台产品服务进入中(zhōng)国市场(chǎng)。

  半导体(tǐ)突发!中国出手:停止采购!

  3月31日,中国网信网发文称,为(wèi)保(bǎo)障关键信(xìn)息(xī)基础设施供应链安全,防范产品问题隐(yǐn)患造成网(wǎng)络安全风险(xiǎn),维(wéi)护(hù)国家安全,依据《中华人民共和国国家(jiā)安全法》《中华人(rén)民共和国网络安(ān)全法》,网络安全(quán)审查办公室(shì)按照《网络安全审查办法》,对美光公司(Micron)在华销(xiāo)售的产(chǎn)品实施网络安全审(shěn)查。

  半导体(tǐ)突发(fā)!中国出手(shǒu):停止(zhǐ)采购!

  美(měi)光是美(měi)国的存储芯片行业龙头,也是全(quán)球存储芯(xīn)片巨头之(zhī)一,2022年收入来自(zì)中(zhōng)国市场(chǎng)收入从此前高峰57%降(jiàng)至2022年约(yuē)11%。根据市场咨询(xún)机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电子、 铠侠、西部数据、SK 海(hǎi)力士、美光、Solidigm 在全(quán)球 NAND Flash (闪存)市场份额约为 96.76%,三星电子、 SK 海力士、美光在全球 DRAM (内存)市场份额约(yuē)为(wèi) 94.35%。

  A股上(shàng)市公司中,江波龙(lóng)、佰维存(cún)储等公司披露过美(měi)光等国际存储厂商为(wèi)公司供应商。

  美光在江波龙采购(gòu)占比已经显著下降,至少(shǎo)已经不(bù)是主要大供应商。

 马云的钱属于个人吗 公告显示, 2021年美(měi)光(guāng)位列江波(bō)龙第一大存储晶圆供应商,采购约(yuē)31亿元(yuán),占比33.52%;2022年,江波龙第一(yī)大、第二大和第三大供应(yīng)商采购金(jīn)额占比分别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江(jiāng)波龙已经在存储产业链上下游建立国内外广泛合(hé)作。2022年年报显(xiǎn)示,江波龙与三星、美光、西部数据等主要存储(chǔ)晶圆原厂签(qiān)署了长期合约(yuē),确保(bǎo)存储晶圆(yuán)供应的(de)稳定性,巩固(gù)公司在下(xià)游市场(chǎng)的(de)供应优(yōu)势,公(gōng)司也与国内国产存储晶圆原厂武汉长江存储、合肥长(zhǎng)鑫(xīn)保持良(liáng)好的合作。

  有券商(shāng)此前就分析,如果(guǒ)美光在中国区销售受到限制,或(huò)将(jiāng)导致下游客(kè)户转而(ér)采购国外三(sān)星、 SK海力士(shì),国(guó)内长江存储、长鑫存储等(děng)竞对产品

  分析称,长存(cún)、长鑫的上游(yóu)设备厂(chǎng)或从中受益。存(cún)储器(qì)的(de)生(shēng)产已经演进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的(de)工艺。另外NAND Flash现(xiàn)在已经进入3D NAND时代(dài),2 维到3维的(de)结构(gòu)转变(biàn)使刻蚀和薄膜成为(wèi)最(zuì)关键、最(zuì)大量(liàng)的加工设备。3D NAND每层均需要经过薄膜沉积工艺步(bù)骤,同时刻(kè)蚀目前前沿(yán)要刻到 60:1的深孔,未来可能(néng)会更深的孔或(huò)者沟槽,催生更多设备(bèi)需(xū)求。据东京电子(zi)披露(lù),薄膜沉(chén)积(jī)设备及刻蚀占3D NAND产线资本开支合计为75%。自长江存储被(bèi)加入美国限制名(míng)单,设备国产化进程(chéng)加速,看好(hǎo)拓荆科技(薄膜沉积(jī))等相关公(gōng)司份额提(tí)升,以及(jí)存储(chǔ)业务占比较(jiào)高的华海清科(CMP)、盛美上海(清(qīng)洗)等收入增(zēng)长。

 

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