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张姓与什么姓是世仇 全国张姓是一家吗

张姓与什么姓是世仇 全国张姓是一家吗 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看(kàn)一则突发消息。

  美光公司(sī)在华销售的产品(pǐn)未通过网络安全(quán)审查

  据网信办消息,日前,网络安(ān)全审查办公室依法对美光公司在华销售(shòu)产品进行了网络安全(quán)审查。

  审查发现,美光公司产品存在较严重网络安全问题隐患,对我国关键(jiàn)信息基(jī)础(chǔ)设施供应链造成重大安全风险,影响我国国(guó)家安全。为此(cǐ),网络(luò)安全审查(chá)办公室依法(fǎ)作出不予通过(guò)网(wǎng)络安全审查的结论。按(àn)照(zhào)《网(wǎng)络安全法》等(děng)法律法规,我国内关键(jiàn)信息基础设施的运(yùn)营者应停(tíng)止(zhǐ)采购美光公司产品(pǐn张姓与什么姓是世仇 全国张姓是一家吗)。

  此次对美(měi)光公司产品进行网络安全审查(chá),目的是防范产(chǎn)品网络安全(quán)问题危害国家关键信(xìn)息基(jī)础(chǔ)设施安(ān)全,是维护国家安(ān)全的必要(yào)措施。中国坚定推进高水平对外开(kāi)放,只要遵(zūn)守中国法律法规要求(qiú),欢迎各国企业、各类(lèi)平台产品服务进入中(zhōng)国市场。

  半导体(tǐ)突发!中国出(chū)手:停止采购!

  3月31日,中国网(wǎng)信(xìn)网发(fā)文称,为保障(zhàng)关键信息基础设施供应链安全(quán),防范产品问题(tí)隐患(huàn)造(zào)成网(wǎng)络安(ān)全风险,维护国家安全,依(yī)据《中华人(rén)民共和国国家安(ān)全法(fǎ)》《中华人民共和国网络安(ān)全法》,网络(luò)安全审查办公室按(àn)照《网络安全(quán)审查办法(fǎ)》,对美光公司(Micron)在华销售的产(chǎn)品实施网络安全审查。

  半导体突发!中(zhōng)国出(chū)手:停(tíng)止采购!

  美光是美(měi)国的存(cún)储(chǔ)芯片(piàn)行(xíng)业(yè)龙头,也是(shì)全球(qiú)存(cún)储芯片(piàn)巨头之(zhī)一,2022年收(shōu)入来自中国市场收入从此(cǐ)前高峰57%降至2022年约11%。根据市(shì)场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电子、 铠侠(xiá)、西部数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市场份额(é)约为 96.76%,三星电子、 SK 海力(lì)士、美(měi)光在全球 DRAM (内存)市场(chǎng)份(fèn)额约(yuē)为 94.35%。

  A股上市公(gōng)司中,江波龙(lóng)、佰(bǎi)维存储等(děng)公司披(pī)露过美光等国际存储厂(chǎng)商为公司供应商。

  美光(guāng)在江波龙采购(gòu)占比已经显著下(xià)降,至少已经不是(shì)主要大供(gōng)应商。

  公告显示(shì), 2021年(nián)美光位列江波龙第一大存(cún)储晶圆(yuán)供(gōng)应商,采购约31亿元,占(zhàn)比33.52%;2022年(nián),江波龙(lóng)第一大(dà)、第二(èr)大(dà)和第三(sān)大供应商采(cǎi)购金额占比分别(bié)是26.28%、22.85%和5.76%。

  目(mù)前江波龙已经在存储产业链上下游建立国内外广泛合作(zuò)。2022年年报显(xiǎn)示,江波(bō)龙与三(sān)星、美(měi)光、西部数据等主要存(cún)储晶圆原(yuán)厂签署了长期合约,确保存(cún)储晶圆(yuán)供(gōng)应的稳(wěn)定性,巩固(gù)公(gōng)司在下(xià)游(yóu)市(shì)场的供(gōng)应优势(shì),公司也与(yǔ)国内国产存储晶圆(yuán)原厂武汉长(zhǎng)江(jiāng)存储、合(hé)肥长(zhǎng)鑫保(bǎo)持良(liáng)好的合作。

  有券商此前(qián)就分析,如果美光在中(zhōng)国区销售受到限制(zhì),或将导致下游客户转而(ér)采购(gòu)国外三星、 SK海力士,国内长(zhǎng)江存储、长鑫存储等(děng)竞对产品

  分析称,长存、长鑫的上游设备厂或从中(zhōng)受益。存储器(qì)的生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的(de)工艺。另外(wài)NAND Flash现在已(yǐ)经进入3D NAND时代,2 维到3维的结构转变使刻蚀和薄膜成为最关键、最(zuì)大量的加工设备。3D NAND每层均需要经过薄膜沉(chén)积工艺(yì)步骤,同(tóng)时(shí)刻蚀目前前沿要刻到 60:1的(de)深(shēn)孔(kǒng),未来可能(néng)会更深的(de)孔或者沟槽(cáo),催生更多设备需求。据东京电子(zi)披露(lù),薄膜沉积设备及刻蚀占3D NAND产(chǎn)线资本开支合(hé)计为75%。自长江存储被(bèi)加入美国限(xiàn)制名单(dān),设(shè)备国(guó)产化进程加速(sù),看好拓荆(jīng)科技(薄膜沉积(jī))等相关公司份(fèn)额提升,以及(jí)存储(chǔ)业务占比较高(gāo)的(de)华海清张姓与什么姓是世仇 全国张姓是一家吗科(kē)(CMP)、盛美上(shàng)海(清洗)等收入(rù)增长。

 

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