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恒星年和回归年的区别通俗易懂的,恒星年和回归年的区别原因 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消(xiāo)息(xī),国家知识产权(quán)局(jú)局长申(shē恒星年和回归年的区别通俗易懂的,恒星年和回归年的区别原因n)长雨在新闻发(fā)布会上表示,将(jiāng)统筹推进各类知识(shí)产权法律法规和制度规则的制修订工作(zuò)。其中,修改完善集(jí)成电(diàn)路布图设计保护条例,适(shì)应大规模集成电路发展需要,助力芯片产(chǎn)业(yè)做(zuò)大做(zuò)强,服(fú)务数字(zì)经济更好发展(zhǎn)。

  加强大数据、人工智(zhì)能、基因(yīn)技(jì)术等新领域新业态知识产(chǎn)权规则研究,助力相关(guān)领(lǐng)域创新发展。同时,积极(jí)参与知识产权国际规则制定,更好对接高标准(zhǔn)国(guó)际经贸规(guī)则(zé),助力高水(shuǐ)平对外(wài)开(kāi)放。

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