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亲爱的让你㖭我下黑

亲爱的让你㖭我下黑 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消息,国家知识产(chǎn)权局局长(zhǎng)申(shēn)长雨在新闻(wén)发(fā)布(bù)会上表示,将统筹推进各类知识产权(quán)法律(lǜ)法规和(hé)制度规则的制修订工(gōng)作。其中,修改完善集成电路布图设(shè)计保(bǎo)护条例,适(shì)应(yīng)大规(guī)模集成电路发展需要,助(zhù)力芯片产业做大做强,服(fú)务(wù)数字经(jīng)济更好发(fā)展。

  加强(qiáng)大数据、人(rén)工智能(néng)、基因技术等新领域新业态知(zhī)识(shí)产权规则研究,助力(lì)相关领域创新亲爱的让你㖭我下黑发展。同时,积极参与知识产(chǎn)权国际规则制(zhì)定,更好(hǎo)对接高(gāo)标(biāo)准国(guó)际经(jīng)贸规则,助力高水平对外开放。

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