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画的作者是谁 画的作者是高鼎吗

画的作者是谁 画的作者是高鼎吗 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消息(xī),国家知识产权局局长(zhǎng)申长雨在新闻发布(bù)会上表示,将(jiāng)统筹推进各类(lèi)知识产权法(fǎ)律法(fǎ)规和制度规则(zé)的制修订工作(zuò)。其中,修改完(wán)善集成电(diàn)路布图设计保护条例(lì),适应大规模集成电路发展需要,助力(lì)芯片产业(yè)做大做强,服(f画的作者是谁 画的作者是高鼎吗ú)务数字(zì)经济更好发展。

  加强大数据、人工智能、基因技术等(děng)新领域新(xīn)业态知识产(chǎn)权规(guī)则(zé)研(yán)究,助力(lì)相关领(lǐng)域创新发(fā)展(zhǎn)。同时,积极参与知识产权国际规则制(zhì)定,更好对接高标准国际(jì)经贸规则(zé),助力高(gāo)水平对外(wài)开放(fàng)。

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