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欧莱雅染发剂和施华蔻染发剂哪个好,欧莱雅染发剂和施华蔻染发剂哪个好 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消(xiāo)息,国家知(zhī)识产权局局长(zhǎng)申长(zhǎng)雨在(zài)新(xīn)闻(wén)发(fā)布会上表示,将统(tǒng)筹推(tuī)进各类知识产权法律法(fǎ)规和制(zhì)度规则的制(zhì)修订工作。其中(zhōng),修改完善集成电路(lù)布图设计保护条例,适应大规(guī)模集成电路欧莱雅染发剂和施华蔻染发剂哪个好,欧莱雅染发剂和施华蔻染发剂哪个好发展需要,助力芯片产业做大(dà)做强,服务数(shù)字经济更好发展。

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