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国际歌的作者是谁哪国人,国际歌作者是哪个国家的人

国际歌的作者是谁哪国人,国际歌作者是哪个国家的人 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来(lái)看(kàn)一则(zé)突发消息。

  美光(guāng)公司(sī)在(zài)华销售的(de)产品未通(tōng)过网(wǎng)络安全审(shěn)查

  据网信办消(xiāo)息,日前,网络(luò)安全(quán)审查(chá)办公室依法对美光公(gōng)司在华销售产品进行了网络安全审查。

  审查发(fā)现(xiàn),美光公(gōng)司产品存在较严重网络安全问题隐患,对我国关键信(xìn)息基础设施供应链造成重大安(ān)全风险,影响我国(guó)国家安全(quán)。为此,网络安全审查办公室依法(fǎ)作出(chū)不予(yǔ)通过网络安全审查的结论。按照《网络(luò)安全法》等法律法(fǎ)规,我国(guó)内关键信息(xī)基(jī)础(chǔ)设施的运营(yíng)者应停止采购美光公(gōng)司产品。

  此次对美光(guāng)公司产(chǎn)品进行网络(luò)安全(quán)审查,目的是防范(fàn)产品网络安全问题危害(hài)国(guó)家关键(jiàn)信息基础设施安全(quán),是(shì)维护国家安全的必要措(cuò)施。中(zhōng)国坚定(dìng)推进(jìn)高水平(píng)对外开放,只要(yào)遵守中国法律法规要求,欢迎(yíng)各国企业、各类(lèi)平台产品(pǐn)服务进(jìn)入中国市(shì)场。

  半导体突(tū)发!中国出(chū)手:停止采(cǎi)购!

  3月31日,中(zhōng)国(guó)网信网(wǎng)发(fā)文称,为(wèi)保(bǎo)障关键信息基础设施(shī)供(gōng)应链安(ān)全,防范产品(pǐn)问题隐患造成网络安全风(fēng)险,维护国(guó)家(jiā)安全(quán),依(yī)据《中华人民共和国国家(jiā)安全法》《中(zhōng)华人民共和国网络安全法》,网(wǎng)络安(ān)全审查办公室按(àn)照《网络安(ān)全审查办法》,对美光公司(Micron)在华销售的产品(pǐn)实施网络(luò)安全审查。

  半导体突发(fā)!中国出手:停止采(cǎi)购!

  美光是美国的存储芯片行业(yè)龙头(tóu),也是全球(qiú)存储芯片(piàn)巨头之一,2022年收入来(lái)自中(zhōng)国(guó)市场(chǎng)收(shōu)入从此(cǐ)前高峰(fēng)57%降至2022年约(yuē)11%。根(gēn)据市场咨(zī)询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年(nián)三(sān)星电子、 铠(kǎi)侠、西部数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球(qiú) NAND Flash (闪存)市场份额(é)约(yuē)为 96.76%,三星电子、 SK 海力士、美光在全球 DRAM (内存)市场(chǎng)份(fèn)额约为 94.35%。

  A股上市公司(sī)中(zhōng),江波龙、佰维(wéi)存储(chǔ)等公司披露过美光(guāng)等国际存储厂商为公司供应商。

  美光(guāng)在江(jiāng)波龙(lóng)采购占比已经显著下(xià)降(jiàng),至少已经不是(shì)主要大(dà)供应商。

  公告显示, 2021年美光位(wèi)列江波龙(lóng)第(dì)一大(dà)存储晶圆供应商,采购约(yuē)31亿元(yuán),占比33.52%;2022年(nián),江波(bō)龙第(dì)一大、第(dì)二大和(hé)第三大供应商采购金额(é)占(zhàn)比分别是(shì)26.28%、22.85%和5.76%。

  目(mù)前江波龙已经在存储产业(yè)链上下游建立国(guó)内(nèi)外广泛合作。2022年年报显示,江波龙(lóng)与三(sān)星(xīng)、美光、西部数据等主要(yào)存储晶圆原厂签署了长期合约,确保存(cún)储晶圆供应的稳定性(xìng),巩(gǒng)固公司在下游(yóu)市(shì)场的供应优势,公司也与国(guó)内(nèi)国产存(cún)国际歌的作者是谁哪国人,国际歌作者是哪个国家的人储晶圆原厂武(wǔ)汉长江存储、合肥长鑫保持良好的合(hé)作。

<国际歌的作者是谁哪国人,国际歌作者是哪个国家的人p>  有券商此前就(jiù)分析,如果(guǒ)美光在(zài)中国区销售受(shòu)到限制,或将导(dǎo)致下游客户转而采购国外三星、 SK海力士,国(guó)内长江存(cún)储(chǔ)、长鑫存储等竞对产品

  分析称,长存、长鑫的上游设备厂(chǎng)或从(cóng)中受(shòu)益。存储器(qì)的生产已经演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外NAND Flash现(xiàn)在已经进入3D NAND时(shí)代,2 维到(dào)3维的结构转变使刻蚀和薄膜成为最关(guān)键、最大量(liàng)的加工设备。3D NAND每层均需(xū)要经过薄(báo)膜沉积工艺步骤(zhòu),同时刻蚀目前前沿(yán)要刻到(dào) 60:1的深孔,未来可能会(h国际歌的作者是谁哪国人,国际歌作者是哪个国家的人uì)更深的孔(kǒng)或者沟槽(cáo),催生(shēng)更多设备需求(qiú)。据东京电子披(pī)露,薄膜(mó)沉积设(shè)备及刻蚀占3D NAND产线资本开支合(hé)计为75%。自长江(jiāng)存储被加入美(měi)国限制名单,设备(bèi)国(guó)产化进程加速(sù),看(kàn)好拓(tuò)荆(jīng)科技(薄膜沉积)等相关(guān)公司份额(é)提(tí)升(shēng),以及存储业务占比较高的华海(hǎi)清(qīng)科(CMP)、盛(shèng)美上海(清洗(xǐ))等收入增长。

 

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