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西气东输的起点与终点,西气东输的起止点是哪里?

西气东输的起点与终点,西气东输的起止点是哪里? 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界(jiè)4月24日消息,国家知识产(chǎn)权(quán)局局长申长雨在新闻(wén)发布会上表示,将统筹推(tuī)进各类知识(shí)产(chǎn)权(quán)法律法规和(hé)制度规则的制修订工作(zuò)。其(qí)中,修改(gǎi)完善(shàn)集(jí)成电(diàn)路布(bù)图设(shè)计保(bǎo)护条例,适应大规模集成(chéng)电路(lù)发展需(xū)要,助力芯片(piàn)产业做(zuò)西气东输的起点与终点,西气东输的起止点是哪里?大(dà)做强,服务数字经(jīng)济更好(hǎo)发展。

  加强大数(shù)据、人工智能(néng)、基因技(jì)术等(děng)新领域新业态知识产(chǎn)权规则研究,助力(lì)相关领(lǐng)域创(chuàng)新发展。同时,积(jī)极参与(yǔ)知识产权(quán)国际规则制定,更(gèng)好对接高(gāo)标(biāo)准国际(jì)经贸规则(zé),助(zhù)力高水(shuǐ)平对外(wài)开放(fàng)。

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