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康桥在哪里再别康桥,徐志摩康桥在哪里 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看(kàn)一则(zé)突发(fā)消息。

  美(měi)光公司(sī)在华销售(shòu)的产品未通过网络安全审查(chá)

  据网信办消息,日前(qián),网(wǎng)络安(ān)全(quán)审查办公室依法对(duì)美光公司在华销(xiāo)售产品进行了网络安全(quán)审查。

  审查发现,美光(guāng)公司(sī)产品存在较严重网络安(ān)全问题隐患(huàn),对我国关(guān)键信息基础(chǔ)设施供应链(liàn)造成重大(dà)安(ān)全风险,影响我国国家安全。为此,网络安全审查办公室依法作出不予通过网(wǎng)络安全审(shěn)查的结论。按照《网络安全法》等法律法规,我国内关键信息基础设施的运(yùn)营者(zhě)应停止采购美光公司产品。

  此次对美光(guāng)公司(sī)产品进行网络(luò)安(ān)全审查,目(mù)的是防范产品(pǐn)网络安全问题危(wēi)害国家(jiā)关键信息(xī)基础设施安全,是维(wéi)护(hù)国家安全(quán)的必(bì)要措施(shī)。中国坚定推(tuī)进高水(shuǐ)平对外开(kāi)放,只(zhǐ)要遵守中国法(fǎ)律法规要求,欢(huān)迎各国企业、各类平(píng)台产(chǎn)品服务(wù)进入中(zhōng)国市场。

  半导体(tǐ)突发!中(zhōng)国(guó)出手(shǒu):停止采购!

  3月31日,中国(guó)网信网(wǎng)发文称,为保障关键信息基础(chǔ)设施供应(yīng)链安全(quán),防范产品问题隐患造成网络安(ān)全风险(xiǎn),维护国家安全,依据《中华人民共(gòng)和国国家(jiā)安全法》《中(zhōng)华(huá)人(rén)民共和国(guó)网络安全法(fǎ)》,网络安全(quán)审查办公室按照《网络安全审查办(bàn)法》,对(duì)美光公司(Micron)在华销售的产品(pǐn)实施(shī)网(wǎng)络(luò)安全审查。

  半(bàn)导(dǎo)体突发!中(zhōng)国出手(shǒu):停止采购!

  美光是(shì)美国(guó)的存储芯片行业龙(lóng)头,也是全球存储芯片巨头之(zhī)一,2022年收入来自中(zhōng)国市场收入从(cóng)此前高峰57%降至(zhì康桥在哪里再别康桥,徐志摩康桥在哪里)2022年约11%。根据市场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电子(zi)、 铠侠、西(xī)部数据、SK 海力士(shì)、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市场份额约为 96.76%,三星电子、 SK 海力士(shì)、美光在全球 DRAM (内(nèi)存)市(shì)场份额约为 94.35%。

  A股上市公司(sī)中,江波龙、佰维存储等公司披露(lù)过美(měi)光等国际存储厂商(shāng)为公(gōng)司供应商。

  美光在江(jiāng)波龙采(cǎi)购占(zhàn)比康桥在哪里再别康桥,徐志摩康桥在哪里已经(jīng)显著下降,至少已经(jīng)不是主要大供应商。

  公告显示(shì), 2021年美光位列江(jiāng)波龙第(dì)一大存储晶圆供应商(shāng),采购约31亿元(yuán),占(zhàn)比33.52%;2022年,江波龙第(dì)一大、第(dì)二大(dà)和第三大供应商采购(gòu)金额(é)占比分别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波龙已经(jīng)在(zài)存储产业(yè)链上下(xià)游建立国内外广泛合(hé)作。2022年(nián)年报显示,江波龙与三(sān)星、美光、西(xī)部数据等主要(yào)存储晶(jīng)圆(yuán)原厂签(qiān)署(shǔ)了长期合(hé)约,确(què)保存储晶(jīng)圆供应(yīng)的稳定性,巩固公司在下游市场(chǎng)的(de)供应优势,公司也与国内国产存储晶圆原厂武汉(hàn)长(zhǎng)江存储、合肥长鑫(xīn)保(bǎo)持良好的合作(zuò)。

  有券商此(cǐ)前就分析,如果美光(guāng)在中国(guó)区销售(shòu)受到限制,或将导致(zhì)下游客(kè)户转(zhuǎn)而采(cǎi)购国(guó)外三(sān)星(xīng)、 SK海力士,国内长江存储、长鑫(xīn)存储等(děng)竞对产(chǎn)品

  分析称(chēng),长存、长(zhǎng)鑫(xīn)的(de)上(shàng)游设备厂或从中受益。存储器的生(shēng)产已(yǐ)经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外NAND Flash现在已经进入(rù)3D NAND时代(dài),2 维到3维的结(jié)构转变(biàn)使刻蚀和(hé)薄膜成为最关键、最(zuì)大量的加工设备。3D NAND每层均需(xū)要经过薄膜沉积工艺步骤(zhòu),同时刻蚀目前前(qián)沿(yán)要(yào)刻(kè)到 60:1的深孔,未(wèi)来可能会更(gèng)深的孔或(huò)者沟槽,催(cuī)生更多(duō)设备(bèi)需求(qiú)。据东京电子披露,薄(báo)膜沉积设备及(jí)刻蚀占3D NAND产线资本(běn)开支(zhī)合计为75%。自长江存储被(bèi)加(jiā)入美国限制(zhì)名单,设备国产化进(jìn)程加速,看(kàn)好拓荆(jīng)科技(薄(báo)膜沉积)等相关公(gōng)司份额提(tí)升,以及存储(chǔ)业(yè)务占比较高(gāo)的华(huá)海清(qīng)科(CMP)、盛美上海(清洗)等(děng)收入(rù)增长。

 

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