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负荆请罪的历史人物是哪位人,负荆请罪的历史故事中的主要人物是谁

负荆请罪的历史人物是哪位人,负荆请罪的历史故事中的主要人物是谁 经济日报刊文:日本限制半导体设备出口必遭反噬

  5月23日(rì),日本经济产业省宣布修正了所谓强化高性(xìng)能(néng)半导体(tǐ)制造装置(zhì)出口(kǒu)管制措施的省令,并明负荆请罪的历史人物是哪位人,负荆请罪的历史故事中的主要人物是谁确将于7月23日实施(shī)。日本此举(jǔ)定会对自身经济、科技发展和国际(jì)形象造(zào)成反噬效应,最终得不偿失。

  日本经济产业大臣(chén)西村康稔(rěn)曾在公布(bù)规则方案时称“我们的出口限制并不针对某(mǒu)一特定国家”,但这种“此(cǐ)地无银三百两”的说法显然没有说服力。

  事实上,日(rì)本(běn)政(zhèng)府(fǔ)限制高(gāo)性能(néng)半导(dǎo)体设备出口指向明确(què),意(yì)图清晰(xī)。从去(qù)年10月份开始,美国(guó)就(jiù)对华实施(shī)了16纳米(mǐ)以下(xià)半(bàn)导体(tǐ)设备(bèi)出口管制措(cuò)施,并多(duō)次诱压日本、荷兰等在半导(dǎo)体设备领域具有优势地位(wèi)负荆请罪的历史人物是哪位人,负荆请罪的历史故事中的主要人物是谁的国家紧(jǐn)跟其脚步(bù),形成美日荷半导体遏(è)华同(tóng)盟(méng),试图(tú)通(tōng)过(guò)出口管制阻断中(zhōng)国在(zài)尖端(duān)半导体领(lǐng)域的(de)技(jì)术发(fā)展(zhǎn)进程。日本此次也正是顺应美(měi)国(guó)政府(fǔ)要求,强化对抗中国(guó)的姿(zī)态,与美国(guó)沆瀣一气,将经贸和科技问(wèn)题(tí)政(zhèng)治化、工具化、武器化,强(qiáng)行(xíng)割裂半导体全球大市场(chǎng),塑造封闭“小圈子”,加大尖端半(bàn)导体(tǐ)领域对华遏制(zhì)打压力度。

  从西(xī)村康稔(rěn)的解释来看(kàn),日本政府显然在随美遏华上底气不足。一方面,日本政(zhèng)府难以承受正面对抗中国的后果。多家(jiā)日本媒(méi)体报道认为,虽然此次(cì)管制措(cuò)施未点名中国(guó),但一定会引发中国的“强烈反制(zhì)措施”。中(zhōng)国商务部在(zài)5月23日的答记者问中已经明(míng)确,中方(fāng)将保留采(cǎi)取措施的权利(lì),坚决维(wéi)护自(zì)身合法权(quán)益。而近日(rì)中国(guó)关键基础设施停购美光(guāng)科技产品(pǐn),也(yě)足以证明(míng)中国(guó)在半导体反制方面的(de)工具储备(bèi)十分丰(负荆请罪的历史人物是哪位人,负荆请罪的历史故事中的主要人物是谁fēng)富(fù)。

  另一方(fāng)面,日本政府强行随(suí)美(měi)起舞只(zhǐ)会损害本国经济(jì)利益。在限制出(chū)口规则实(shí)施后,日本(běn)东(dōng)京电子、尼康等(děng)十几家(jiā)企(qǐ)业的(de)经营将(jiāng)受(shòu)到(dào)直接影响。而自美国去年(nián)10月实施对华出口管制以来,日本半导体企业整体对华出口额已(yǐ)呈下(xià)降趋势。5月(yuè)23日修正案公(gōng)布后,多家日半导体(tǐ)企业股价(jià)下跌(diē)。对华出口管制造成的(de)不安(ān)全感,将迫使(shǐ)日半导体(tǐ)企业调(diào)整(zhěng)长期经营(yíng)战略,为(wèi)日本半导体(tǐ)产业的未来发展增添了极大不确(què)定性。

  长(zhǎng)久(jiǔ)以(yǐ)来,中(zhōng)日两国在半导体领域(yù)分工明确,合(hé)作紧密,为世界半导体(tǐ)产业发展和国(guó)际市场(chǎng)稳定作(zuò)出了突出贡献。然而,为配合美遏华举措,日本(běn)政(zhèng)府近年来不惜挥舞经(jīng)济安保大棒实施“无差别攻(gōng)击”,这(zhè)既打伤了(le)中日半导体等经(jīng)贸(mào)科技(jì)领域(yù)合作的良好基(jī)础,更打伤了日本本国(guó)企业的发(fā)展信心和前景。希望日本政府(fǔ)尽快修(xiū)正错误,回到中日合作共赢(yíng)的正轨。

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