大家好，来看一则突发消息(xī)。

　　美光(guāng)公司(sī)在华销售(shòu)的(de)产品未(wèi)通过网络安全审查

　　据网信办消息(xī)，日前，网络(luò)安全审查办(bàn)公室依法(fǎ)对美(měi)光公司在(zài)华销售产品(pǐn)进行了网(wǎng)络安全(quán)审查。

　　审(shěn)查发现(xiàn)，美光(guāng)公司产品存在较严重网(wǎng)络安全(quán)问题隐患(huàn)，对我国关键信(xìn)息基础设施供(gōng)应(yīng)链造成重大(dà)安全风险，影响我(wǒ)国国家(jiā)安全。为此，网络安全审查(chá)办(bàn)公室依法作出不予通过网络安全(quán)审查(chá)的结论。按(àn)照《网络安(ān)全法(fǎ)》等法(fǎ)律法规，我(wǒ)国(guó)内关键信息(xī)基础设施的运营者(zhě)应(yīng)停止采(cǎi)购(gòu)美光公司产(chǎn)品(pǐn)。

　　此次对美光(guāng)公(gōng)司产品进行网络安全审查，目(mù)的是防(fáng)范(fàn)产(chǎn)品网(wǎng)络安(ān)全问题危害国家关键(jiàn)信(xìn)息基础(chǔ)设施安(ān)全，是维护国家安全的必要措施。中国坚定(dìng)推进高水平对外开放，只要遵守(shǒu)中国法(fǎ)律法(fǎ)规要求，欢迎各国企业(yè)、各类平(píng)台产品服务进(jìn)入中国市(shì)场。

　　3月31日，中国(guó)网信网发文称，为保障关键信(xìn)息基(jī)础设施供(gōng)应链安全，防范产品(pǐn)问题隐(yǐn)患(huàn)造成网络(luò)安全风险，维护(hù)国(guó)家安全，依(yī)据《中华人民共和国国(guó)家安全法》《中华人民共和国网(wǎng)络安全(quán)法》，网络安全审查办公室按照《网络安全审查办法》，对(duì)美光公司(新冠疫苗接种后多久更新健康码，新冠疫苗接种后多久更新健康码信息sī)（Micron）在华销售的产(chǎn)品实(shí)施网(wǎng)络安全审查(chá)。

　　美光(guāng)是(shì)美国的存储芯片(piàn)行业龙(lóng)头(tóu)，也(yě)是全球存储芯片(piàn)巨头之(zhī)一，2022年收入来自中(zhōng)国市(shì)场收入从此前高峰57％降至(zhì)2022年约11％。根(gēn)据市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电(diàn)子、 铠(kǎi)侠、西部数(shù)据(jù)、SK 海(hǎi)力士、美光、Solidigm 在全球(qiú) NAND Flash （闪存）市(shì)场份额约为 96.76％，三星电子、 SK 海力士、美光在全球 DRAM （内存(cún)）市场份额约为 94.35％。

　　A股上市(shì)公司(sī)中，江波龙、佰(bǎi)维(wéi)存(cún)储等(děng)公司披露过美光等国(guó)际存储厂商为(wèi)公司供应商。

　　美光(guāng)在(zài)江波龙采(cǎi)购占比已(yǐ)经显著下(xià)降，至少已经不是主要大供(gōng)应商。

　　公(gōng)告显示， 2021年美光位列江波龙第一大存储晶圆(yuán)供(gōng)应商，采购(gòu)约31亿元(yuán)，占比33.52％；2022年，江波龙第一大、第二大(dà)和第三大供应(yīng)商采购金额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙(lóng)已经在(zài)存(cún)储产(chǎn)业(yè)链上下游建立国内(nèi)外广泛(fàn)合作。2022年年报显示，江波龙与三星、美光(guāng)、西部数据(jù)等主要存储晶圆原(yuán)厂签署了(le)长期合约，确保存储(chǔ)晶圆供应(yīng)的稳定性，巩固公司在(zài)下游市(shì)场(chǎng)的供应优势，公司也(yě)与国内国产存储晶圆原厂武汉长江(jiāng)存储、合肥(féi)长鑫保持良好的合作(zuò)。

　　有券商此(cǐ)前就分析，如果美光(guāng)在中国区销售受到(dào)限制，或将导致(zhì)下游客户转(zhuǎn)而采(cǎi)购国外三星、 SK海力士，国内长江存储、长鑫存储等竞对产(chǎn)品

　　分析称，长(zhǎng)存、长鑫的上游设备厂或从中受益。存储器新冠疫苗接种后多久更新健康码，新冠疫苗接种后多久更新健康码信息(qì)的生产已经演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的(de)工艺(yì)。另(lìng)外(wài)NAND Flash现(xiàn)在已经进(jìn)入(rù)3D NAND时代，2 维到(dào)3维的结(jié)构(gòu)转变使刻蚀和薄膜成为最(zuì)关键、最大(dà)量的(de)加工设备。3D NAND每(měi)层均需要经过薄(báo)膜沉(chén)积工(gōng)艺步骤，同时刻(kè)蚀目前前沿要刻(kè)到 60：1的深孔(kǒng)，未来可能会更深的孔或者(zhě)沟槽，催生更多设备需(xū)求(qiú)。据东京电子披露，薄(báo)膜沉积设备(bèi)及刻蚀(shí)占3D NAND产线资本开支合计为75％。自长江存(cún)储被加入(rù)美国限(xiàn)制(zhì)名(míng)单，设备国产化进程加(jiā)速(sù)，看好拓荆(jīng)科技（薄膜(mó)沉积）等相关公(gōng)司(sī)份额提(tí)升，以及存储业务占比较高的华海清科（CMP）、盛美上海（清洗(xǐ)）等收(shōu)入(rù)增长。

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