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　　美(měi)光公司在华销售的产(chǎn)品(pǐn)未通(tōng)过(guò)网络安全审查

　　据网信(xìn)办(bàn)消息，日(rì)前，网络安全审查办公室依法对美光公(gōng)司在华销(xiāo)售产品进行了网络安可口可乐的创始人是谁，雪碧创始人是谁全(quán)审查。

　　审查发现(xiàn)，美(měi)光公司产品存在较严重网(wǎng)络安全问题隐(yǐn)患，对我国关键信息基础(chǔ)设施供应链(liàn)造(zào)成(chéng)重大安(ān)全风(fēng)险(xiǎn)，影响我(wǒ)国国家安全。为此，网(wǎng)络安全审查办公室依(yī)法作出不予通(tōng)过(guò)网络安全审查的结(jié)论。按照《网络安全法》等法律法规，我国内关键信息基础设施的运营者(zhě)应停止采(cǎi)购美光公(gōng)司产(chǎn)品。

　　此(cǐ)次对美光公司产品进行网络安全审查(chá)，目的可口可乐的创始人是谁，雪碧创始人是谁是(shì)防范产(chǎn)品网络安全问题(tí)危害国(guó)家关键信息(xī)基(jī)础设施安(ān)全，是维护国(guó)家安全(quán)的必要措(cuò)施。中(zhōng)国坚定推(tuī)进高水平对外(wài)开(kāi)放，只要遵守中国法(fǎ)律法(fǎ)规要求，欢迎各国(guó)企业、各类(lèi)平台产品服务进入中国市(shì)场。

　　3月(yuè)31日，中国网信网发(fā)文称，为保障关键信息基础设施(shī)供(gōng)应链安全(quán)，防范产品问题(tí)隐患造成(chéng)网络安全(quán)风险，维护国家安全，依据《中华人(rén)民共和(hé)国国家安(ān)全法》《中华人民共和国(guó)网络安全法》，网络安全审查办(bàn)公室按(àn)照《网络安(ān)全审查办法》，对美光(guāng)公司（Micron）在华销(xiāo)售的产品(pǐn)实施网络(luò)安全审查。

　　美(měi)光是美(měi)国(guó)的存储(chǔ)芯片行(xíng)业(yè)龙(lóng)头，也是全(quán)球存储芯(xīn)片(piàn)巨(jù)头之一，2022年收(shōu)入来自中国市场收(shōu)入从此前高峰57％降至2022年约11％。根据市场咨(zī)询机构(gòu) Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三(sān)星电子、 铠侠、西部(bù)数据、SK 海(hǎi)力士、美光、Solidigm 在全(quán)球 NAND Flash （闪(shǎn)存）市场(chǎng)份额约(yuē)为 96.76％，三星电子(zi)、 SK 海力士、美光在全球 DRAM （内存）市场份额约为(wèi) 94.35％。

　　A股上市公司中，江波龙(lóng)、佰维存储等(děng)公司(sī)披(pī)露(lù)过美光等(děng)国际(jì)存(cún)储厂商为公司供应商。

　　美光在江波龙(lóng)采购占比已(yǐ)经显(xiǎn)著下(xià)降，至少已经不是主要大(dà)供应商。

　　公告显示(shì)， 2021年美光位(wèi)列江波龙(lóng)第一(yī)大存(cún)储(chǔ)晶圆供应商，采购约31亿元，占比33.52％；2022年，江波龙第(dì)一大(dà)、第二大和(hé)第(dì)三大供应商采(cǎi)购金(jīn)额占比分别是26.28％、22.85％和(hé)5.76％。

　　目前江(jiāng)波(bō)龙已经在存储产业(yè)链(liàn)上(shàng)下游建立国内外广泛合作。2022年(nián)年报显示，江(jiāng)波龙(lóng)与三星(xīng)、美光(guāng)、西部数据等(děng)主(zhǔ)要存储晶圆(yuán)原厂签署了长期合约，确保存储晶圆供应的稳定性，巩固(gù)公司在下游市场的供应优势，公司也与国(guó)内国(guó)产存(cún)储晶(jīng)圆原厂武(wǔ)汉(hàn)长江存(cún)储、合(hé)肥(féi)长鑫保持良好的(de)合作。

　　有券商此(cǐ)前就分析(xī)，如(rú)果美光(guāng)在中国区(qū)销售(shòu)受到限制(zhì)，或将导(dǎo)致下游(yóu)客(kè)户转而采购国外三(sān)星、 SK海力士，国内(nèi)长江存储、长鑫存(cún)储等竞对产品(pǐn)

　　分析称，长存(cún)、长(zhǎng)鑫(xīn)的(de)上(shàng)游设备厂或(huò)从中受益。存储器的生产(chǎn)已经演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外NAND Flash现在已经(jīng)进入3D NAND时代，2 维到3维的(de)结构转变使刻蚀和薄(báo)膜成为最关键、最大(dà)量(liàng)的(de)加工设备。3D NAND每层(céng)均(jūn)需要(yào)经过(guò)薄膜(mó)沉积工艺步骤，同时刻蚀目(mù)前前沿要刻到 60：1的(de)深(shēn)孔，未来可能(néng)会更深的孔或(huò)者沟槽，催(cuī)生(shēng)更多(duō)设备(bèi)需求。据(jù)东京电(diàn)子披露，薄(báo)膜沉(chén)积设备(bèi)及刻蚀(shí)占3D NAND产线资本开支合计为75％。自长江(jiāng)存储(chǔ)被加入美国限制名单，设备(bèi)国产化进程加速，看好拓荆科技（薄膜沉积）等相关公司(sī)份额提升，以及存(cún)储(chǔ)业务(wù)占比(bǐ)较(jiào)高的华海清科（CMP）、盛美上海（清洗）等收入(rù)增长。

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