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项数怎么求公式,等差数列的项数怎么求 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来(lái)看一(yī)则突发消息(xī)。

  美光(guāng)公(gōng)司在华销(xiāo)售的(de)产品未通过(guò)网(wǎng)络(luò)安全(quán)审查(chá)

  据(jù)网信办消息,日(rì)前,网络安全(quán)审查办公室依法对美光公司在(zài)华销售(shòu)产品进行(xíng)了网络安全审查(chá)。

  审查发现,美光公司产品存在(zài)较严(yán)重网络安全问题(tí)隐患,对我国关(guān)键(jiàn)信(xìn)息基础(chǔ)设(shè)施供应链造成(chéng)重大安全风险,影(yǐng)响(xiǎng)我国国家安全。为此,网络安全审(shěn)查(chá)办公室依法(fǎ)作出不予通过网络安全审查的结(jié)论。按照(zhào)《网络(luò)安(ān)全法》等(děng)法律法规,我国内关键(jiàn)信(xìn)息基础设施的运营(yíng)者应停止采购(gòu)美光公司产品。

  此次对(duì)美光(guāng)公(gōng)司产品进行网(wǎng)络安全审查,目的是防范产品(pǐn)网络安全问题(tí)危害国家关键信息基础设(shè)施安(ān)全,是维护国家安全的(de)必要措施。中国坚定(dìng)推进(jìn)高水平对(duì)外(wài)开放,只要遵(zūn)守(shǒu)中国法律法规要求,欢迎各国企业、各类(lèi)平台产品(pǐn)服务进入中国市场。

  半导体突发!中国出手:停止采(cǎi)购!

  3月31日(rì),中国(guó)网(wǎng)信网发文称,为保障关键信息(xī)基础设施供应链(liàn)安全,防范产品问(wèn)题隐患造成网(wǎng)络安全风(fēng)险,维(wéi)护国家(jiā)安全(quán),依据(jù)《中(zhōng)华人(rén)民共和国国家安全(quán)法》《中华人民共和国(guó)网络安全法》,网(wǎng)络安全审(shěn)查办(bàn)公室(shì)按照《网络安(ān)全审查办法》,对美光(guāng)公司(Micron)在华销售的产(chǎn)品(pǐn)实施网络安全审查。

  半导体突发!中国出手:停止采购!

  美光(guāng)是(shì)美国的存(cún)储芯片(piàn)行业龙头(tóu),也(yě)是(shì)全球存储芯片巨头之一,2022年(nián)收入来自中(zhōng)国市场收入从此(cǐ)前(qián)高峰57%降至2022年约11%。根(gēn)据市场咨询机构 Omdia(IHS Mark项数怎么求公式,等差数列的项数怎么求it)统计,2021 年(nián)三星(xīng)电(diàn)子、 铠侠、西(xī)部数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在(zài)全球 NAND Flash (闪存)市场份额(é)约为 96.76%,三(sān)星电子、 SK 海力士、美光在全(quán)球 DRAM (内存(cún))市场份额约为 94.35%。

  A股上(shàng)市公司(sī)中,江波龙、佰(bǎi)维存储(chǔ)等(děng)公司披露过美(měi)光等国(guó)际存储厂商为公司供应商。

  美光在江波龙采购(gòu)占比已经显著下降(jiàng),至少已(yǐ)经不是主要(yào)大供应商。

  公告(gào)显示, 2021年美(měi)光位列江(jiāng)波龙(lóng)第一大存(cún)储晶圆供应商,采购约31亿元,占比33.52%;2022年,江(jiāng)波龙第一大、第二大和(hé)第三大供应商采(cǎi)购金额占比分别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波龙(lóng)已经(jīng)在存储产业(yè)链上下游建立国(guó)内外广泛(fàn)合作。2022年年报显示,江波龙与三星、美(měi)光、西部数据(jù)等主要存储晶(jīng)圆原厂签署了长期合约,确(què)保存储晶(jīng)圆(yuán)供(gōng)应的稳定性,巩固公司在下(xià)游市场的(de)供应优(yōu)势,公(gōng)司也(yě)与国内国产存储晶圆(yuán)原厂武汉长江存(cún)储、合肥长(zhǎng)鑫(xīn)保持良好的合作。

  有(yǒu)券(quàn)商此(cǐ)前就分析,如果美光在中国(guó)区销(xiāo)售(shòu)受到限制,或将导致下游(yóu)客户转而采购国外三星、 SK海力士,国内长(zhǎng)江存储、长鑫(xīn)存储等竞(jìng)对产品

  分析称,长存(cún)、长鑫的上游设备(bèi)厂或从中受益。存储器的(de)生(shēng)产(chǎn)已经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的(de)工艺。另外NAND Flash现在(zài)已(yǐ)经进入3D NAND时代,2 维(wéi)到(dào)3维(wéi)的结构转变使刻蚀(shí)和薄膜(mó)成为最关(guān)键、最(zuì)大量(项数怎么求公式,等差数列的项数怎么求liàng)的加(jiā)工设(shè)备。3D NAND每(měi)层(céng)均需要经过薄膜沉积工艺步骤,同时刻(kè)蚀目前(qián)前沿要刻到 60:1的(de)深孔,未来可(kě)能会更深的孔(kǒng)或者沟(gōu)槽,催(cuī)生更多设(shè)备需求。据东京(jīng)电(diàn)子披露,薄(báo)膜沉(chén)积设备(bèi)及刻蚀(shí)占3D NAND产线资本开(kāi)支(zhī)合计(jì)为75%。自(zì)长江存储被加入美(měi)国限制名单(dān),设备国产化进程加速,看好拓荆科技(薄膜沉(chén)积)等(děng)相关公司份额提升(shēng),以及存储业务占比较(jiào)高的华海清科(CMP)、盛美上海(清(qīng)洗)等收入增(zēng)长。

 

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