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杰威尔属于什么档次,男士护肤品十大排行榜10强

杰威尔属于什么档次,男士护肤品十大排行榜10强 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来(lái)看(kàn)一则(zé)突发(fā)消息(xī)。

  美光(guāng)公司在华销售的产品未(wèi)通过网络安全审查

  据网信办消息,日前,网络安(ān)全(quán)审查(chá)办公室依法对(duì)美光公司(sī)在华销售产品进行(xíng)了网络安全(quán)审(shěn)查。

  审查(chá)发现,美光(guāng)公(gōng)司产(chǎn)品存(cún)在较严重网(wǎng)络安(ān)全问(wèn)题隐患,对(duì)我国关键信息基础设(shè)施供(gōng)应链(liàn)造成重(zhòng)大安(ān)全风险(xiǎn),影响我国国家安全。为此,网络(luò)安(ān)全审(shěn)查办公室依(yī)法作出不予通过网络(lu杰威尔属于什么档次,男士护肤品十大排行榜10强ò)安全(quán)审查的结论。按照(zhào)《网(wǎng)络安(ān)全法》等法律法规,我(wǒ)国内关键信息基础设施(shī)的运营者应停(tíng)止采购美光公司产品。

  此(cǐ)次对(duì)美光公司(sī)产(chǎn)品进行网(wǎng)络安全审查,目的是(shì)防范产品网(wǎng)络安全问题危害国家(jiā)关键信(xìn)息(xī)基础设施安全,是维护国家安全的必要措施。中国坚定(dìng)推进高水平对(duì)外开放,只要遵守中国法律法规要求,欢(huān)迎各国企业、各类平(píng)台产品服(fú)务进入中国市场。

  半导体突发!中国出手:停止采购!

  3月31日,中国网(wǎng)信网发文称(chēng),为保障关键(jiàn)信息基(jī)础设施供应链安全,防范(fàn)产品问题隐患造成网络安全风险,维护国家安全,依(yī)据《中华人民共和国国家安全法》《中华人民(mín)共和国网络安全法》,网络安全(quán)审查办公室(shì)按照《网(wǎng)络安(ān)全审查办法》,对美光公(gōng)司(sī)(Micron)在华销(xiāo)售(shòu)的产品实施网络安全审查。

  半导体(tǐ)突发!中国出手:停止采购!

  美光是美(měi)国的(de)存(cún)储芯片行业龙(lóng)头(tóu),也是全(quán)球(qiú)存储芯(xīn)片(piàn)巨头之一(yī),2022年收入(rù)来自中国市场收入从此前高峰57%杰威尔属于什么档次,男士护肤品十大排行榜10强降至2022年约11%。根据市场咨询机构 Omdia(I杰威尔属于什么档次,男士护肤品十大排行榜10强HS Markit)统(tǒng)计,2021 年(nián)三星电子、 铠侠、西部数据(jù)、SK 海力(lì)士、美光(guāng)、Solidigm 在全(quán)球 NAND Flash (闪存)市场份额约为 96.76%,三(sān)星电子、 SK 海力士(shì)、美光(guāng)在(zài)全球 DRAM (内(nèi)存(cún))市场份(fèn)额约为(wèi) 94.35%。

  A股上(shàng)市(shì)公司中,江(jiāng)波(bō)龙、佰维存储等(děng)公司披露过美光等国际存储厂(chǎng)商为公司供应(yīng)商。

  美光(guāng)在江波龙采购占比已经显著下降,至少已经不是(shì)主要大供应商。

  公告显示, 2021年美光位列江波(bō)龙(lóng)第一大存储晶圆供应商,采(cǎi)购(gòu)约(yuē)31亿元,占比33.52%;2022年,江波龙第一大、第二(èr)大和第三大供应商采购金额占比分(fēn)别是(shì)26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波龙已经在存储产业链上下游建立国内外广泛合作。2022年年报显示,江波龙与三星(xīng)、美光、西部数据等主要存储晶(jīng)圆原厂签署了长期合约,确保存储晶圆(yuán)供应(yīng)的(de)稳定性,巩(gǒng)固公司在(zài)下(xià)游市场的(de)供应优势,公司也与国(guó)内国产存储晶圆原厂武汉(hàn)长江存储、合(hé)肥长鑫(xīn)保(bǎo)持(chí)良好(hǎo)的合(hé)作。

  有券商此前就分析,如果美(měi)光在中国区销(xiāo)售受到(dào)限制,或将导致下游客(kè)户转而采购(gòu)国外三星、 SK海力士,国内长江存(cún)储、长鑫(xīn)存储等竞(jìng)对产品(pǐn)

  分析(xī)称,长存、长鑫的上游设备厂或(huò)从中受益。存储器的(de)生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工(gōng)艺(yì)。另外NAND Flash现(xiàn)在已经(jīng)进(jìn)入3D NAND时代,2 维到3维的结(jié)构转变使刻蚀和(hé)薄膜成为最关键、最大量的加工设备。3D NAND每(měi)层均需要经(jīng)过(guò)薄(báo)膜(mó)沉(chén)积工艺步(bù)骤,同时刻蚀(shí)目前(qián)前(qián)沿(yán)要刻到 60:1的深孔,未来可(kě)能(néng)会更深的孔(kǒng)或者沟槽,催生更多设备需求。据东(dōng)京电子披露,薄膜(mó)沉积(jī)设备(bèi)及刻蚀占3D NAND产线资本(běn)开(kāi)支(zhī)合计为75%。自长(zhǎng)江存(cún)储被加入美国限制名单,设备国(guó)产化进程加(jiā)速,看好拓荆科(kē)技(薄膜沉积)等相(xiāng)关公司份额(é)提升,以及存(cún)储业务(wù)占比较高的华海清科(CMP)、盛美上海(清(qīng)洗(xǐ))等收入增长。

 

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